در این مقاله ساختار سلول حافظه غیر فرار سازگار با تکنولوژی استاندارد CMOS ارایه میگردد.آرایه ای از این سلول ها با چگالی ذخیره سازی بالا روی تکنولوژی CMOS 0.25 میکرومتر طراحی و ساخته شده است
تبلیغات
اطلاعات فایل
| حجم فایل | 597.21 KB |
| تعداد فایل | 1 |
| دانلود شده | 4 بار |
| ارسال توسط | فوریه 8, 2016 |
| پسوند فایل |  |
طراحی و ساخت سلول حافظه غیر فرار در فرآیند ساخت استاندارد CMOS